对话半导体专家卢志远院士：突破纳米级极限，最大的障碍是光刻机
搜狐科技《思想大爆炸——对话科学家》栏目第131期，对话美国国家发明家科学院院士，世界科学院院士卢志远。嘉宾简介：卢志远，美国国家发明家科学院院士，中国台湾“中央研究院”院士，世界科学院院士，旺宏电子股份有限公司总经理、科技总监，欣铨科技股份有限公司董事长。
0.6纳米光刻机中国造来了！什么3纳米1纳米都不是事，我们0.6纳米首台国产商业化电子束光刻机研发成功
据杭州经信官微消息，近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯：首台国产商业化电子束光刻机已在客户现场进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。据悉，依托省重点实验室，研究院自主研发的新一代100kV电子束光刻机“羲之”已正式走向市场。团队负责人...
